三星电子正于竭尽全力晋升其2奈米GAA制程的良率，方针是到达50%，以便于进步前辈制程技能的竞争中追逐台积电。按照韩媒《NewDaily》的报道，三星的体系LSI与晶圆代工部分正于加快晋升Exynos

三星电子于DRAM内存范畴取患了主要技能冲破，成为首家引入干式光刻胶（Dry PR）技能的公司。按照韩媒ETNews的报导，这项新技能将运用在行将推出的第六代10纳米级工艺（1c nm）。干式光刻胶与

陪同人工智能、物联网、5G、汽车电子等相干运用范畴的成长，我国已经经持续多年景为全世界集成电路最年夜市场。于市场需求的鞭策下，我国集成电路财产快速发展，成为全世界主要增加极。为进一步增强国际海内交流互

于加州圣荷西进行的「Advancing AI」开发者年夜会上，超微（AMD）履行长苏姿丰（Lisa Su）正式推出了新一代AI芯片MI400系列，这一系列产物旨于挑战市场带领者辉达（NVIDIA）。苏

于全世界半导体行业日趋竞争激烈的配景下，台积电与东京年夜学在6月12日正式启用TSMC-UTokyo Lab（台积电-东京年夜学试验室），标记着两边于半导体研究与教诲范畴的深度互助进入新阶段。这一试验